Elektronen-
bestrahlung von
Leistungshalbleitern
Präzise Modifikation der Eigenschaften durch den Einsatz von Elektronenstrahlen
Leistungshalbleiter sind zentrale Komponenten in der Leistungselektronik, die in einer Vielzahl von Anwendungen, von der Energieverteilung bis hin zu industriellen Antrieben, verwendet werden. Um das Schalt- und Durchlassverhalten dieser Halbleiterbauelemente optimal an die jeweiligen Anforderungen anzupassen, wird die Elektronenbestrahlung (E-Beam) eingesetzt: Ein bewährtes Verfahren, das durch die Erzeugung von Rekombinationszentren die Lebensdauer der Ladungsträger gezielt steuert.
Beispiele für Halbleiterbauelemente, die häufig einer Elektronenbestrahlung unterzogen werden:
Diese Bauelemente profitieren von verbesserten Schalteigenschaften, reduzierten Verlusten und einer verlängerten Lebensdauer.
Im Vergleich zu anderen Verfahren, wie der Diffusion (z. B. Platin- Gold- oder Palladiumdiffusionen) bietet die Behandlung mit Elektronenstrahlen einige Vorteile:
Somit erfolgt keine Veränderung der chemischen Zusammensetzung des Halbleitermaterials. Dadurch werden Ausscheidung oder Agglomerationen der Schwermetalle vermieden und eine sehr feine Steuerung von Schaltzeiten und Sperrschichtkapazität ermöglicht.
Die Elektronenbestrahlung erfolgt bereits bei vergleichsweise niedrigen Temperaturen, wodurch die thermische Belastung des Halbleiters reduziert und die Integrität des Kristallgitters erhalten bleibt. Für die Stabilisierung der erzeugten Defekte ist eine Temperatur von weniger als 270°C erforderlich.
Die Elektronenbestrahlung ermöglicht durch Anpassung von Elektronenfluenz und Bestrahlungsenergie eine flexible Gestaltung der Defekte. Das Verfahren erzeugt somit eine reproduzierbare, homogene Minoritätsträgerlebensdauer und ist weniger anfällig für Prozessschwankungen.
Die Elektronenbestrahlung erzeugt im Sperrzustand einen geringeren Leckstrom. Über die Wahl von Ausheiltemperatur und Bestrahlungsdosis kann das Verhältnis von Doppelleerstellen und Sauerstoff-/ Leerstellenkomplexen gezielt angepasst und die Eigenschaften der Rekombinationszentren optimiert werden.
Mit der Stapelbestrahlung optimieren wir bei BGS nicht nur einzelne Leistungshalbleiter, sondern auch mehrere gleichzeitig – für maximale Effizienz. Bei diesem Verfahren werden zahlreiche Leistungshalbleiter übereinandergestapelt und gleichzeitig dem Elektronenstrahl ausgesetzt. Diese Methode ermöglicht eine effizientere Bearbeitung großer Mengen, da viele Halbleiter gleichzeitig bestrahlt werden können, was die Prozesszeit erheblich verkürzt.
Durch den Einsatz hochenergetischer Elektronenstrahlen (im Bereich von mehreren MeV), wird eine ausreichende Eindringtiefe gewährleistet, um eine homogene Bestrahlung aller Leistungshalbleiter sicherzustellen und die die gewünschte Defektkonzentration zu erhalten.
Sie ermöglichen die schnelle und effiziente Schaltung großer Ströme und Spannungen. Dies ist entscheidend für die Regelung und Stabilität moderner Energieverteilungssysteme.
Modifizierte Dioden und Thyristoren erhöhen die Energieeffizienz und Lebensdauer von Motorsteuerungen. Diese Bauteile ermöglichen präzise Steuerungen in Hochleistungsmotoren, besonders in Anwendungen wie Robotik und Fertigungsautomatisierung.
Modifizierte MOSFETs und IGBTs steigern die Effizienz und Zuverlässigkeit in elektrischen Antrieben und Leistungselektroniken, insbesondere bei extremen Bedingungen wie hohen Temperaturen und starker Beanspruchung.
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